有機ELディスプレイの基礎的な研究開発から少量生産に最適な装置です。O2プラズマ洗浄から成膜・封止まで、すべての工程を一台で処理できます。成膜面が大気に触れることがないため、ダークスポットのない、高性能な有機ELデバイスが製作できます。
また、再現性の高い研究試作により、量産化移行までのプロセス開発が効率よく行えます。

• 有機ELディスプレイパネルの小中量生産

ガラス基板	200×200mm、成膜有効範囲　160×160mm
ロードロック室	基板1枚　マスク2枚の3段昇降機構
プラズマ洗浄室	RFプラズマ電源　O2マスフローコントローラー
蒸着　1室	低温セル蒸発源8式　CCDアライメント機構±5μm
蒸着　2室	抵抗加熱蒸発源4式　CCDアライメント機構±5μm
受け渡し室	ガラス基板受け渡し機構　N2置換
封止室	半自動貼り合わせ機構　UVランプユニット　N2脱水循環機構 N2置換機構
パスボックス	排気：全自動　蒸着：半自動操作　封止：半自動操作
制御系	基板搬送：半自動操作　水晶式蒸着コントロールによる膜厚制御
オプション	蒸着室・スパッタ室・CVD室追加　電子銃蒸発源　高温セル　酸素濃度計　ドライポンプ