このPE-CVD装置は、大型ガラス基板に対し、窒化ケイ素等のガスバリア膜を低温成膜するために開発されました。

この装置を有機EL製造装置に実装することにより、有機層蒸着後にバリア膜を真空中にて連続成膜できます。

マスクアライメントは用途によりCCDアライメント、メカアライメントが選択可能で、精度の良いPE-CVD成膜が可能です。

また、スタンドアローンPE-CVD装置としてもお使いいただけます。

有機ELディスプレイの他LCD-TFT、半導体、太陽電池製造向け等の各種PE-CVD装置としても対応できます。