製品紹介

CVD装置

有機ELから半導体、太陽電池まで様々な用途に活躍

CVD装置 ELVESS-PE-CVD

CVD装置写真 このPE-CVD装置は、大型ガラス基板に対し、窒化ケイ素等のガスバリア膜を低温成膜するために開発されました。

この装置を有機EL製造装置に実装することにより、有機層蒸着後にバリア膜を真空中にて連続成膜できます。

マスクアライメントは用途によりCCDアライメント、メカアライメントが選択可能で、精度の良いPE-CVD成膜が可能です。

また、スタンドアローンPE-CVD装置としてもお使いいただけます。

有機ELディスプレイの他LCD-TFT、半導体、太陽電池製造向け等の各種PE-CVD装置としても対応できます。

特徴

  • メタルマスクスルー成膜可能
  • 80℃以下の低温成膜が可能
  • 基板対応サイズが第4世代まで対応
  • フェイスダウン/フェイスアップ、どちらの成膜 方法にも対応可能

用途

  • 有機ELディスプレイ
  • 有機半導体
  • 太陽電池
  • その他

基本仕様

モデル 第1世代 第2世代 第3世代 第4世代
対応サイズ 200×200mm 360×460mm 550×650mm 730×920mm
- 325×550mm 600×720mm -
成膜対象 SIN、SINO、SION、SIO
印加周波数 13.56MHz及び27.12MHz
成膜レート 200~300nm/min 200~300nm/min 150~250nm/min 150~250nm/min
膜厚面内均一性 ±5% ±7% ±10% ±10%
膜厚面間分布図 ±5% ±7% ±10% ±10%
クリーニング速度 200~300nm/min以上

お問い合わせ

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キヤノントッキ株式会社 営業部

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